メーカー | 日本電子 |
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型番 | JEM-1400Plus |
利用形態 | セルフ利用/依頼観察支援 |
概要 | |
仕様 | 加速電圧:40-120kV(可変)、電子銃:熱電子放出型(W)、倍率:x 10~ x 1,200,000、分解能:粒子像0.38nm、格子像0.2nm、試料傾斜角(Tilt-X):±25°(標準ホルダー)/±70°(高傾斜ホルダー) |
学外利用 | 不可 |
備考 | 新規利用者は講習受講が必要 |
予約 | https://chem-eqnet.ims.ac.jp/ |
メーカー | 日本電子 |
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型番 | JCM-6000 |
利用形態 | セルフ利用 |
概要 | |
仕様 | 加速電圧:5,10,15kV (二次電子像)、10,15kV(反射電子像)、電子銃:フィラメント・ウェーネルト一体型グリッドの小型電子銃、倍率:x10~ x 60,000(二次電子像)、x10~ x 30,000(反射電子像) |
学外利用 | 要相談 |
備考 | 新規利用者は講習受講が必要 ※2024年4月〜B1B2-B棟311 遺伝子解析室に移動しました。 |
予約 | https://chem-eqnet.ims.ac.jp/ |
メーカー | 日本電子 |
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型番 | JEOL DII-29010SCTR |
利用形態 | セルフ利用 |
概要 | |
仕様 | ターゲット:Au |
学外利用 | 要相談 |
備考 | – |
予約 | – |
メーカー | 日本電子 |
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型番 | JFD-320 |
利用形態 | セルフ利用 |
概要 | |
仕様 | 溶媒:tert-butyl alcohol |
学外利用 | 要相談 |
備考 | – |
予約 | – |
メーカー | エイコー |
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型番 | IB-2 |
利用形態 | セルフ利用 |
概要 | |
仕様 | 親水化処理装置 |
学外利用 | 不可 |
備考 | 親水化処理のみ使用可 |
予約 | – |
メーカー | ライカマイクロシステムズ |
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型番 | EM-UC7 |
利用形態 | セルフ利用 |
概要 | |
仕様 | 常温切片作製装置。切片厚設定:~15um |
学外利用 | 不可 |
備考 | – |
予約 | 利用希望者は担当者までご相談ください |
メーカー | 日本電子 |
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型番 | 真空蒸着装置 JEE-420T |
利用形態 | 要相談 |
概要 | |
仕様 | 蒸着源:C |
学外利用 | 不可 |
備考 | – |
予約 | 利用希望者は担当者までご相談ください |
メーカー | 日本電子 |
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型番 | JFD-Ⅴ |
利用形態 | 要相談 |
概要 | |
仕様 | 蒸着源:Pt-C、C |
学外利用 | 不可 |
備考 | 凍結レプリカ膜作製装置 |
予約 | 利用希望者は担当者までご相談ください |